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863中心FIB与TEM设备上新,赋能新材料微纳尺度探索

发布日期: 2025.03.25

FIB仪器介绍

仪器名称

聚焦双束电子显微镜FIB

仪器型号

Helios 5 CX

生产厂家

美国Thermo Fisher Scientific (FEI)

离子束系统

离子源种类:液态Ga离子源 分辨率:≤ 4.0nm@30kV 加速电压:0.5kV- 30 kV

电子束系统

分辨率:在最佳工作距离:≤0.6nm@15kV;≤1.0mm@1kV(非减速模式);0.9nme1kV(减速模式) 加速电压:加速电压200V-30KV

辅助气体注入系统

W金属沉积

STEM探测器

可实现减薄之后进行STEM模式观测高分辨形貌,STEM分辨率:≤0.6nm@30kV

能谱

Oxford AztecliveLite UltimMax 40

其它功能

大范围拼图Maps软件、Auto TEM软件、全自动纳米机械手等


FIB主要功能、用途

FIB功能

特点

TEM透射样品制备(FIB+TEM

针对表面薄膜,涂层,粉末大颗粒、块体等试样,通过对特定位置精确定位切割来制备TEM试样

微纳结构加工

利用离子束刻蚀、离子束沉积、电子束沉积,进行各种微纳结构的加工、各种显微结构形状或图案的加工

剖面分析(SEM/EDS

准确定位切割,制备截面样品,高分辨扫描电镜功能可对离子束加工试样进行实时观测以及EDS能谱分析。



FIB送样要求

①样品尺寸直径≤6cm、高度≤2.5cm,表面平整,高度差不超过5mm。若样品尺寸过大,需协商进行裁切处理。
②样品不能是强磁性样品以及液体。


FIB应用案例


TEM仪器介绍

仪器名称

场发射透射电子显微镜TEM

仪器型号

Talos F200S G2

生产厂家

美国Thermo Fisher Scientific (FEI)

分辨率

STEM HAADF 分辨率优于0.16 nm@200 kV TEM 信息分辨率优于0.12 nm@200 kV

电子枪类型

肖特基场发射电子枪(S-FEG)

加速电压

20kV-200kV

TEM模式放大倍率

25x-1050kx

STEM模式放大倍率

310x-320Mx

电子衍射模式

会聚束电子衍射(CBED)最大衍射角:≥±12 (半角) 会聚束电子衍射(CBED)最大会聚角:≥100毫弧度(mrad)

超级能谱(Super- X Lite)

配备双能谱探头,能量分辨率:≤136 eV(Mn-Ka)

TEM主要功能、用途

TEM功能

特点

结构分析

主要用于无机、有机材料的高低倍形貌,高分辨微结构与微区组成的分析和研究;

表征范围

颗粒形貌尺寸、微区组成、膜层分析、元素分布、晶体结构、相组成、结构缺陷、晶界结构等

成像

透射像(TEM)、高分辨像 (HRTEM)

微区成分

EDS能谱的点、线和面分析;

TEM送样要求
样品无磁

固体样品通常需要FIB制备成超薄切片(厚度通常小于100 nm),其它粉末样品、液体样品可具体咨询


TEM应用案例





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