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半导体SEMI用316L洁净不锈钢表面离子解决方案
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GP（General Purpose）通用级
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HP（High Purity）高纯度级
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UHP（Ultra High Purity）超高纯度级
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V+V（VIM+VAR）更高等级的材质处理工艺
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AP（Acid Pickling）酸洗处理
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MP（Mechanical Polishing）机械抛光
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BA（Bright Annealing）光亮退火
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EP（Electro Polishing）电解抛光
3.1测试对象及预处理条件
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测试对象 |
萃取液 |
溶液温度（℃） |
萃取时长（h） |
|
316L不锈钢 |
超纯水 |
室温（约 23℃） |
24 |
3.2测试项目及管控规格
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测试类别 |
单位 |
测试离子 |
规格(参考值) |
|
阴离子 |
1012mol/cm2 |
F⁻ |
≤50 |
|
Cl⁻ |
≤120 |
||
|
NO₂⁻ |
≤15 |
||
|
Br⁻ |
≤10 |
||
|
NO₃⁻ |
≤100 |
||
|
SO₄²⁻ |
≤50 |
||
|
PO₄³⁻ |
≤10 |
||
|
阳离子 |
1012mol/cm2 |
Li⁺ |
≤10 |
|
Na⁺ |
≤50 |
||
|
NH4⁺ |
≤50 |
||
|
K⁺ |
≤15 |
||
|
Mg²⁺ |
≤10 |
||
|
Ca²⁺ |
≤90 |
四、检测案例
测试背景：验证关键腔体用SUS316L不锈钢部件表面离子污染情况
测试方法：ASTM F1374
浸泡溶液：超纯水
浸泡温度：23℃
浸泡时间：24h
浸泡方式：全浸泡
测试仪器：IC
测试结果：
|
测试项目 |
方法检出限（1012mol/cm2） |
测试结果 （1012mol/cm2） |
规格 （1012mol/cm2） |
|
|
阴离子萃取量 |
氟离子(F-) |
3.0 |
ND |
≤50 |
|
氯离子(Cl-) |
1.6 |
3.5 |
≤120 |
|
|
溴离子(Br-) |
0.7 |
ND |
≤15 |
|
|
亚硝酸根离子(NO2-) |
1.3 |
ND |
≤10 |
|
|
硝酸根离子(NO3-) |
0.9 |
3.3 |
≤100 |
|
|
磷酸根离子(PO43-) |
0.6 |
ND |
≤50 |
|
|
硫酸根离子(SO42-) |
0.6 |
ND |
≤10 |
|
|
阳离子萃取量 |
铵根离子(NH4+) |
3.2 |
ND |
≤10 |
|
锂离子(Li+) |
2.1 |
ND |
≤50 |
|
|
钠离子(Na+) |
2.6 |
5.2 |
≤50 |
|
|
钾离子(K+) |
1.5 |
ND |
≤15 |
|
|
镁离子(Mg2+) |
2.4 |
ND |
≤10 |
|
|
钙离子(Ca2+) |
1.4 |
ND |
≤90 |
|
备注：
(1) ND = 未检出(低于方法检出限)。
(2) 客户提供的测试样面积：8641mm2。
实验室配置了IC、AAS/GFAAS、GFAAS、ICP-AES、ICP-MS等多套精密检测设备。可以满足ASTM F1374测试。
863检测具备丰富的ASTM F1374测试经验，协助半导体用洁净不锈钢及相关组件供应商，以及化学品输送生产设计企业满足SEMI标准要求，尤其在表面离子、金属离子、挥发性有机物残留(VOC)分析等方面有先进前处理方法，确保结果的准确性。863检测拥有专业的技术团队和丰富的半导体测试经验、完善的服务内容和服务网络，能为企业提供专业的咨询和测试服务。
